超声波清洗设备、纯水设备、工业冷水机、喷淋清洗设备、电镀设备、全自动清洗设备、电镀设备、整流器、烘干设备、烤箱

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  • 半导体用氮气烤箱

  • 半导体用氮气烤箱
  • 发布时间: 2025-06-08
    有 效 期:  
    发货地址: 广东省 深圳市  
    产品规格: KSD-XPKX
    所属行业: 机械 铸造及热处理设备 工业烤箱  
    包装说明: 木箱
    产品数量: 100.00 
    价格说明:   价格:¥20000.00 元/台 起
    在线留言
  • 产品规格KSD-XPKX包装说明木箱

    半导体用氮气烤箱循环风道性能和加热的结构设置有别于普通烘箱,设备装有氮气装置,有进口氮气流量计,能更准确的控制氮气的进入到箱体内,并且配有快速插拔充氮气接口,方便充氮气并控制氮气,使每一分氮气都能得到充分的使用。防止其受潮氧化,更好的保护产品。

    半导体用氮气烤箱箱体规格:

    内尺寸:450(长)×450(宽)×450(高)mm;(双箱式,单箱独立控制)

    外尺寸约:以实物为准;

    单箱内分六层,底起50mm**层,以上平分,配网板六个,可活动抽出;

    门上有玻璃视窗W250*H250mm;

    半导体用氮气烤箱内材质为:304#不锈钢工业板,厚5.0mm,加强处理,抽真空不变形;

    外材质为:冷轧钢板,厚1.2mm,粉体烤漆处理;

    保温材质为:耐高温岩棉,保温效果好;

    密封材质为:耐高温硅胶条;

    安装活动脚轮及可调固定脚座,可任意推动;

    箱体结构为连体式,上部分为产品箱,下部分真空泵安装处,右侧控制面板;


    半导体用氮气烤箱特点:

    迅速脱氧:该箱内胆采用不锈钢制造,箱壁接缝全部采用氩弧焊焊接,密封性能较,能快速脱氧;

    氮气功能:可充入氮气、氩气等惰性气体,实现气氛、无氧、降温之功能;

    高效率:稳定和快速的升温性能,有助于提高产品质量和效率;

    半导体用氮气烤箱保温节能:箱体与工作室之间填充高密度纤维棉作保温材料,有效保温节能;

    密封性好:箱门与工作室外框设有耐高温无尘密封条和压紧装置,有效地保证了箱体的密封性能;

    置物架:工作室内设计可抽取的载物网板;

    美观简洁:设备外形美观,操作简便,控温灵敏准确;

    宽泛的温度范围选择。

    半导体用氮气烤箱控温系统:

    温度控制为PID方式触摸屏仪表(TEMI580),单点式或程序式控温,可自动演算,PV/SV同时显示,点触设定;带有记忆功能(如温度、时间),记忆每次使用试验过程温度及时间.数保存较长时间为6个月,带有232电脑接口

    计时器功能:仪表自带(可设定小时、分钟),温到计时,时间到停止加热,同时报警提示;

    半导体用氮气烤箱同时另外采用仪表显示箱内上、中、下三个中心点温度,只显示,不保存记录;

    感温线(PT100)型;

    输出为3-32V;

    电流控制器为:固态继电器SSR无接点;

    升温速率:100℃约15分钟,控制仪表到温后,需恒温15-20分钟,内部温度才能达到;

    半导体用氮气烤箱采用三面加热,热辐射对流方式,发热管安装于内箱外壁左、右、底三面;

    加热元件为:不锈钢高温发热管;

    温度范围:常温+30至250℃之间,常用温度分别为90度、120度、180度;

    控制精度±2.0℃;

    半导体用氮气烤箱显示精度0.1℃;

    箱内温度偏差分布均匀度±5℃.(空箱测试,较高层与较低层偏差)

    真空系统

    本机采用高密度性的硅胶密封条,进行门口处密封;

    真空度为数显示,采用SMC压力表显示即时真空度,相对压力显示;

    半导体用氮气烤箱机台真空度范围:0KPa至-100.0KPa,(真空度为:≤265Pa);

    真空控制方式:自动控制,达到真空度停止抽真空,低于下**自动启动,以此循环工作,恒温时间完成后,停止工作;手动解压充空气或充氮气;

    真空度在产品烘烤过程中的变化,只显示观察,不保存数据;

    半导体用氮气烤箱配置4升直连式真空泵,功率550W,电压220V.

    充氮气装置(可手动充空气解压)

    调压阀:控制氮气压力,正常使用下氮气压力调为2公斤左右

    计:控制氮气进入箱内的大小,量程为2L/min-10Lmin;

    氮气管道进入到箱内正后面,外配2米长10mm氮气软管;

    氮气需贵公司提供。

    半导体用氮气烤箱保护系统:

    超温保护系统:当温度失控时,超过超温保护设定温度时,自动停止加热供电,从而保护产品及机器的安全;

    电路保护系统:接地保护、缺相保护、快速保险丝。

    半导体用氮气烤箱机器电源:

    电压 380V 三相五线

    电流 23A

    单箱加热功率 6KW

    总功率 15KW

    半导体用氮气烤箱详细说明:

    使用电源:AC 380V 50HZ

    使用温度:室温--250度

    内胆尺寸:深500*宽600*高750(mm)

    半导体用氮气烤箱外形尺寸:深750*宽1150*高1350(mm)

    内胆材料:不锈钢板

    外壁材料:A3冷轧钢板

    充氮装置:气体减压阀,惰性气体控制,通入流出箱内管道

    半导体用氮气烤箱箱内分层:3层,标配2个可抽出式载物隔板

    控温方式:PID智能数显温控,按键操作,LED数字显示,设定温度和实际温度双温度显示

    控温均匀:±3℃

    加热元件:电加热管,使用寿命长达4万小时以上

    半导体用氮气烤箱加热功率:4 KW

    鼓风电机:耐高温长轴电机配离心风轮,安装在箱体左侧

    送风方式:箱内两侧双风道出风,左侧出风,右侧水平回风内循环

    定时装置: 1分-99.99小时恒温定时,可预设烘烤时间,时间到自动切断加热并声光报警

    半导体用氮气烤箱安全装置: 漏电,短路,过载保护;鼓风电机过载缺相保护

    出厂配件:标配不锈钢网版2层

    选装配件:可增减层数 2.承重型搁板;烘盘 3.程序控温 4.固定滑轮 5.多通道温度记录仪6.计算机远程监控 7.彩屏触摸控制


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