半导体用纯水设备

一、半导体用纯水设备概述

水是生产中不可或缺的重要原料。人们的日常生活中或多或少的都会接触或者用到，所以制造用水的质量标准严重影响着化妆品产品的安全与否、更关系到使用者们的健康，的可靠度和稳定性有着较高的要求。

二、半导体用纯水设备简介

　　半导体用纯水设备采用双级RO反渗透设计模式融入科瑞稳流控压技术，与前置预处理配套使用，利用反渗透原理，有效去除水中各种盐份及杂质;系统工艺先进、产水水质稳定、操作简便、运行费用低、绿色环保无污染、维护方便等优点。

（1）半导体用纯水设备符合2010国家fda纯化水标准，符合GMP认证要求!

（2）半导体用纯水设备整体采用超低压渗透过滤技术，更可节能可达20%以上，长期下来可谓您节省大量电费，降低运营成本！

（3）半导体用纯水设备运行稳定性高，设计采用科瑞稳流控压技术，降低膜损耗，延长膜使用寿命！

（4）半导体用纯水设备便捷操作，维护简便，看一遍就能学会！

（5）半导体用纯水设备品牌质量**：质保一年，售后上门 ！

三、半导体用纯水设备工艺流程

半导体用纯水设备双级反渗透方式：

半导体用纯水设备原水->多介质过滤器->活性炭过滤器->软化水器->中间水箱->低压泵->精密过滤器->一级反渗透->PH调节->混合器->二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)->纯水箱->纯水泵->微孔过滤器->用水点

双级反渗透+EDI：

半导体用纯水设备原水->多介质过滤器->活性炭过滤器->软化水器->中间水箱->低压泵->PH值调节系统->高效混合器->精密过滤器->高效反渗透->中间水箱->EDI水泵->EDI系统->微孔过滤器->用水点　

半导体用纯水设备采用离子交换树脂制备电子工业超纯水的传统水处理方式，其基本工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→阳床→阴床→混床（复床）→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点

半导体用纯水设备采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合制备电子工业超纯水的方式，其基本工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→混床（复床）→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点

半导体用纯水设备采用反渗透设备与电去离子（EDI）设备进行搭配制备电子工业超纯水的的方式，这是一种制取超纯水的较新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→电去离子（EDI）→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点工艺比较

目前制备电子工业用超纯水的工艺基本上是以上三种，其余的工艺流程大都是在以上三种基本工艺流程的基础上进行不同组合搭配衍生而来。

四、半导体用纯水设备优缺点比较：

1、半导体用纯水设备**种采用离子交换树脂其优点在于初投资少，占用的地方少，但缺点就是需要经常进行离子再生，耗费大量酸碱，而且对环境有一定的破坏。

2、半导体用纯水设备*二种采用反渗透作为预处理再配上离子交换设备，其特点为初投次比采用离子交换树脂方式要高，但离子设备再生周期相对要长，耗费的酸碱比单纯采用离子树脂的方式要少很多。但对环境还是有一定的破坏性。

3、半导体用纯水设备*三种采用反渗透作预处理再配上电去离子（EDI）装置，这是目前制取超纯水较经济，较环保用来制取超纯水的工艺，不需要用酸碱进行再生便可连续制取超纯水，对环境没什么破坏性。其缺点在于初投资相对以上两种方式过于昂贵。

五、半导体用纯水设备设计优势

1.半导体用纯水设备纯化水各连接部分**采用焊接，其次卡接，杜绝使用丝牙连接方式。

2.半导体用纯水设备整个系统全部采用单面焊接双面成型工艺，采用德国进口自动焊机和美国**切管工具自动焊接工艺。

3.半导体用纯水设备与终端纯水接触的管线均满足GMP3D要求，胶垫为PTPE，隔膜阀水平安装时为45度，循环管线安装为 0.5的坡度，设较低点为排放点。

4.半导体用纯水设备各系统分别设取样点，以方便检测水质。

5.半导体用纯水设备整个系统采用三维设计、生产、加工、安装一体化，并设有循环回水管道，杜绝死水管道。

6.半导体用纯水设备采用PLC 触摸屏自动控制方式，稳定可靠、精致美观。自动模式为一键式启动，操作简单方便。

7.半导体用纯水设备人性化三维设计，符合人机工程学;触摸屏、开关、仪器、仪表设立高度位置，符合国人平均身高方便人工操作。

8.半导体用纯水设备触摸屏对水泵、阀门、水罐液位、设有动态动画监控画面。

9.半导体用纯水设备手动模式内设管理权限，分别为：管理员、工程师、操作员三种级别的管理。

10.半导体用纯水设备手动、自动模式转换方便，具备特殊提醒功能，以防止非操作人员误操作此设备。

11.半导体用纯水设备对纯化水电导率实施实时的监控，保持较低1m/s以上的流速。以减少纯化水管网微生物滋生的可能性。

12.半导体用纯水设备人性化的报警记录与提示功能;当遇到滤材更换周期到、满水、缺水、低压、超压在触摸屏事件记录栏会记录，当遇到水质、压力、流量出现异常会发出报警。

13.半导体用纯水设备各级水质区段设定合格水与不合格排放到**段的功能，确保水质稳定安全。（若5分钟内恢复水质合格，在触摸屏上记录栏记录，超过时间不恢复发出报警）

14.半导体用纯水设备为了实现各区段无死角，若纯化水罐满水后2两小时无波动，会触发整个系统循环，防止管道长时间不流动滋生微生物。

15.半导体用纯水设备设水质纠偏功能，有较低使用水质预警功能，永远不会出现紧急的状态。

16.半导体用纯水设备制水系统与供水系统分开控制，如遇更换耗材，可不必停止供水或者制水。

17.半导体用纯水设备RO产水、冲洗时间可设定，当用水高峰期，可调节产水时间，使用水点稳定用水

六、半导体用纯水设备特点

    由多介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等构成预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等构成主要设备系统。原水箱、中间水箱、RO纯水水箱、超纯水水箱均设有液位控制系统、高低压水泵均设有高低压压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人值守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使该设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

1.整体采用超低压渗透过滤技术，可节约大量电费，降低运营成本。

2.运行稳定性高，设计采用科瑞稳流控压技术，确保设备安全运行，降低膜损耗，延长膜使用寿命。

3.配备**浓水调节阀，造作方便。

4.采用超低压反渗透膜，脱盐率高，运行稳定，能耗低。

5.配备水箱进水电磁阀，相比常规的浮球进水阀性能更稳定。

6.配有原水箱，防止因自来水压力不稳定对设备造成影响。

7.便捷操作，维护简便。

七、半导体用纯水设备应用领域

1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水；　

2、超纯材料和超纯化学试剂勾兑用超纯水；　

3、实验室和中试车间用超纯水；　

4、汽车、家电表面抛光处理；　

5、光电子产品；　

6、其他高科技精微产品；

7、食品加工类产品，如盐

8、光伏、血透、